等離子去膠機，也稱為等離子清洗機，是一種高科技的清洗設備，它通過利用高頻電場和化學反應的雙重作用，將表面被去除雜質物的物體放置于等離子體區域內，產生大量離子流和電子流，經過碰撞反應使表面上雜質物質大量裂解氧化，達到除去雜質物的作用。這種設備能夠去除多種類型的膠，包括但不限于以下幾種：

1. 光刻膠：微波等離子清洗相比其他技術形式的等離子清洗方式，具有一致性高、對產品無害、清洗徹底的優點。
2. SU-8光刻膠：特定的微波等離子清洗設備可以安全地清除SU-8光刻膠。
3. 高分子聚合物：通過微波產生的自由基，等離子去膠機能夠完全清除高分子聚合物，包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物。
4. 膠體顆粒：等離子除膠技術利用等離子體的高能量和活性，迅速破壞膠體顆粒的結構，使其失去粘附性，實現膠體的除膠效果。這包括膠水、乳膠等常見膠體，以及膠印、油墨、橡膠等不同類型的膠體。

此外，等離子清洗機還可以去除部分環氧樹脂膠，但不能做到徹底的清潔，需要借助其他酸堿性藥水來進行徹底清除。

總之，等離子去膠機是一種功能強大的設備，可以去除多種類型的膠，廣泛應用于LED封裝、半導體、PCB板、磁記錄頭、手機LCD、智能手機玻璃蓋板、觸控屏、精密機械、光學儀器、航空航天等領域。