大氣等離子清洗機的技術發展歷程
當前，微電子工業中應用到的等離子清洗機大多是在真空條件下來完成的，真空環境的等離子清洗機對產品表面處理均勻性提供了保證。但是，真空等離子清洗機為滿足真空條件，所需要的投入在整個項目的投資方面占了很大的比例。因此，為了擺脫對真空環境的依賴，在大氣壓條件下獲得均勻放電等離子體的問題在20世紀80~90年代被提到了議事日程，并在全球范圍內形成了巨大的研究熱潮，為大氣等離子清洗機的發展提供了良好基礎，大氣等離子體有哪些發展節點呢？接下來為大家普及相關內容：
1、大氣壓非熱力平衡態冷等離子體射流（n-TECAPPJ）裝置的前身
20世紀90年代初，Koinuma等開發出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求，在直徑2mm的范圍內，采用CF()/He作為放電氣體和70W的射頻功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
由于其消耗的平均功率非常小，所產生的等離子體射流對環境以及被處理材料表面幾乎沒有什么熱效應，因此可以將其稱為“冷等離子體射流”。射頻與高頻放電等離子體的產生機理是有所不同的；從應用的角度來看，高頻電源更便宜，相關裝置的設計與制造更間單，因此更實用，從近十年的文獻分析來看，這類裝置的結構大多采用了在惰性氣體%1(或以惰性氣體為主摻入一些活性氣體)氣流通道上形成DBD。
2 、等離子體zidan現象的發現以及相關研究的成果
2005年，Teschke等以及Kedzierski等發表了兩篇論文，展示了用ICCD(像增強電荷耦合傳感器)拍攝的氦大氣壓等離子體射流的照片，發現了“等離子體zidan”(plasma bullets)的現象。自此有關等離子體zidan相關的研究論文如雨后春筍般涌現出來，Lu和Laroussi發現等離子體zidan現象與具體的電極構型無關，同時為了解釋這種發生在氦氣流通道中的等離子體zidan現象，提出了一種光子預電離機制，但仍有很多相關問題未得到解決。
2008年Sands等發現得出射流區與DBD區的放電應該是互相獨立的。Jiang等通過一系列專門設計的實驗進一步證實了這一觀點，并明確指出：等離子體射流本質上是通過高壓電極邊緣的非均勻電場在氦氣流通道中形成的電暈放電，雖然實驗采用了 DBD構型，但射流其實與DBD無關！為了證明這一觀點，他們演示了單電極以及裸電極構型裝置，產生了完全類似的等離子體射流。不僅如此，他們的實驗還表明，采用了如Teschke等的共軸DBD構型的等離子體射流裝置所產生的放電應該有三個等離子體區。
3、實驗測量得出影響射流長度的條件
等離子體zidan的速度是人們比較關心的一個問題，雖然Teschke等早在2005年就已經指出，等離子體zidan是一種電驅動效應，與氣流無關，因為在大多數實驗條件下氣體流速僅約10m/s，比上述zidan的速度小3~4個數量級，但是實驗發現氣體流速對等離子體zidan所形成的射流在空氣中的長度有決定性的影響。
孫姣等最早報道了氣體流速與射流長度的關系。通過采用一種焓探針來測量流出石英管的氣體的軸向流速，他們發現無論是氦氣還是氬氣產生的等離子體射流的長度，在氣體處于層流狀態下時，幾乎與氣體流速成線性關系。 進一步的實驗研究表明，情況比該結論更復雜，除了氣體流量或流速外，驅動電源的參數如電壓、頻率、脈沖寬度等在一定的條件下都會影響大氣射流等離子清洗機射流的長度。
